设备简介
用于清除晶圆上的金属及光阻。奈米级高压雾化喷头将分子微小化，可使药液快速与光阻反应，只要旋转冲洗就可清除金属及光阻，当光阻被溶解会变成浮粒，藉由离心力将浮离后的金属及光阻带离晶圆。
独特专利喷头可依不同需求及制程，针对目标清洗区可特别加强冲洗。
设备特点
功能配备
实验结果
