設備簡介
用於清除晶圓上的金屬及光阻。奈米級高壓霧化噴頭將分子微小化，可使藥液快速與光阻反應，只要旋轉沖洗就可清除金屬及光阻，當光阻被溶解會變成浮粒，藉由離心力將浮離後的金屬及光阻帶離晶圓。
獨特專利噴頭可依不同需求及製程，針對目標清洗區可特別加強沖洗。
設備特點
功能配備
實驗結果
